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【ナノテク】ガラス上に40ナノ幅の溝を掘った化学チップデバイスを開発/ナノ領域での物性観察が容易に…東京大学
- 1 :● ◆SWAKITIxxM @すわきちφ ★:2010/08/26(木) 14:18:51 ID:??? ?2BP(1056)
- 東京大学の北森武彦教授、田中陽助教らは、
ガラス上に最小40ナノメートル(ナノは10億分の1)幅の溝を掘った
化学チップデバイスを開発した。
半導体の微細加工技術をガラスに応用。
さまざまな化学反応をチップ内で起こし、
ナノ領域で起こる物性を観察できる。
シリコン樹脂製の同様のチップがあるが、
有機溶媒を使えないという課題があった。
将来は細胞1個単位の分析や半導体内部の熱を逃がす
微小ヒートパイプの開発などにつながる。
開発したデバイスの名称は「拡張ナノ化学チップ」。
半導体の加工で使う感光性樹脂のフォトレジストをガラス表面に塗ってから、
試験対象物の流路に沿って電子線を照射する。
その後、材料加工でよく使われるフッ素系プラズマを照射すると、
幅、深さともに40ナノメートルの溝を作れる。
試作した化学チップを原子間力顕微鏡(AFM)で観察し、
流路が狙い通りできることを確認した。
日刊工業新
http://www.nikkan.co.jp/news/nkx0720100826aaah.html
東京大学>北森研究室
http://park.itc.u-tokyo.ac.jp/kitamori/index.html
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